METIS HP es una plataforma XY con cojinetes de aire para aplicaciones step-and-scan en semiconductores que requieren estabilidad dinámica, medición del punto de herramienta y control multieje.
El nuevo METIS HP de ETEL es una plataforma planar XY, es decir, para desplazamiento sobre los ejes cartesianos X e Y, desarrollada para procesos industriales de alta precisión en fabricación e inspección de semiconductores.
Orientada a aplicaciones step-and-scan, la plataforma combina guiado mediante cojinetes de aire, control de trayectoria y capacidad de exploración rápida para sistemas de escritura láser directa e inspección óptica de alta resolución.
Además, la arquitectura admite paneles de hasta 600 mm por 600 mm, por lo que resulta adecuada para equipos de litografía sin máscara y procesos sobre sustratos de gran área.
Control de movimiento METIS HP para procesos step-and-scan
En el núcleo del METIS HP se integra un encoder mDoF, abreviatura de multi-degree-of-freedom o múltiples grados de libertad, de HEIDENHAIN para mantener la precisión sin deriva térmica.
Gracias a esta arquitectura, el sistema permite medición proyectada del punto de herramienta, una función relevante cuando la referencia de posición debe coincidir con el punto real de proceso.
Asimismo, los controladores de ETEL pueden emular una señal de posición TTL, transistor-transistor logic o lógica transistor-transistor, para generar eventos de disparo sincronizados con el movimiento.
Por tanto, la plataforma ofrece una alternativa técnica al uso de interferómetros como generadores avanzados de disparo, evitando la incorporación de espejos sobre el carro móvil.
Precisión dinámica y estabilidad para inspección óptica
La especificación de movimiento alcanza una precisión de más menos 150 nm en todo el recorrido XY después del mapeado, un dato clave para procesos ópticos repetitivos.
En condiciones dinámicas, el equipo mantiene una rectitud de más menos 150 nm a velocidades de hasta 1 m/s, lo que favorece trayectorias estables durante la exploración.
Por otro lado, la capacidad de aceleración llega hasta 20 m/s2, reduciendo los tiempos de retorno entre pasadas y contribuyendo al rendimiento de máquina en ciclos step-and-scan.
Para aplicaciones de encapsulado avanzado, el módulo de alta anchura de banda 4-DoF, cuatro grados de libertad, ajusta de forma fina los ejes Z, tip, tilt y theta.
Integración en maquinaria de semiconductores
En equipos de escritura láser directa, la combinación de estabilidad de velocidad y rectitud dinámica ayuda a conservar la calidad de trayectoria durante exposiciones sobre superficies extensas.
La inspección óptica de alta resolución también se beneficia de la regulación del plano focal, ya que los ajustes rápidos de distancia permiten mantener condiciones repetibles de monitorización.
Sin embargo, la eliminación de elementos ópticos adicionales en el carro reduce posibles perturbaciones por aire y simplifica la integración mecánica dentro de herramientas de proceso compactas.
En consecuencia, el METIS HP se dirige a fabricantes de maquinaria que necesitan una plataforma de movimiento con precisión nanométrica, disparo sincronizado y control multieje en entornos productivos exigentes.
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